Building Filters
TEL LITHIUS
- Fabrikant: Tokyo Electron - TEL
- Model: Lithius
Wafelgrootte: 12" | Proces: ENKEL BLOK 2C/3D SYSTEEM | Verzending: EXW
Gyeonggi, Zuid-Korea
Wafelgrootte: 12" | Proces: ENKEL BLOK 2C/3D SYSTEEM | Verzending: EXW
Fotoresist is een lichtgevoelig materiaal dat wordt gebruikt in processen zoals fotolithografie en fotoetsen om een gepatroneerde coating op een oppervlak te vormen. Wanneer het wordt blootgesteld aan een specifieke lichtgolflengte, ondergaat het chemische veranderingen die selectieve verwijdering van de blootgestelde of niet-blootgestelde gebieden mogelijk maken. Dit is cruciaal in de productie van halfgeleiders en micro-elektronica, evenals bij het maken van printplaten.
Overweeg het type fotoresist (positief of negatief), de lichtgevoeligheid, de resolutie en de compatibiliteit met je substraat en ontwikkelaar.
Bewaar fotoresist op een koele, donkere plaats met een constante temperatuur. Het moet uit de buurt van licht en vocht worden gehouden om de gevoeligheid te behouden.
Draag geschikte persoonlijke beschermingsmiddelen, inclusief handschoenen en een veiligheidsbril. Zorg voor goede ventilatie en vermijd direct contact met de huid.