Serienr.: N/A | Hoeveelheid: 1 | Uitrustingsdetail: Magnetron Asher | Apparatuur: Magnetron Asher | Beschrijving: Wafer 100~300mm
Plasma-etsen (droogetsen) gebruikt geïoniseerde gassen en RF-energie om materiaal van wafers nauwkeurig te verwijderen. Systemen combineren vacuümkamers, gaslevering, RF/microwave-bronnen en waferhandling om anisotrope of selectieve etsprofielen te maken voor halfgeleiders, MEMS en geavanceerde materialen. Apparatuur verschilt in kamerformaat, doorvoer en chemie (RIE, ICP) en vereist strakke controle van gasstromen, RF-afstemming en vacuümreinheid voor reproduceerbare resultaten.
Controleer de staat van de kamer, slijtage aan elektroden en liners, de conditie van RF-generatoren, uren van vacuümpompen, kalibratie van MFC's, beschikbare procesrecepten en onderhoudsgeschiedenis.
Spoel en isoleer gasleidingen, leeg of bevestig olievullende pompen, verwijder of beveilig kwetsbare onderdelen, kap alle openingen af en schakel professionele rigging en klimaatgecontroleerd transport in.
Regelmatige kamerreiniging, vervanging van liners en elektroden, onderhoud van vacuümpompen, kalibratie van MFC's en druksensoren, RF-afstemmingscontroles en lektests.