Halfgeleiders » Lithografie (fotolithografie) » Coat/Develop Tracks » Saitama

Building Filters

1

Gebruikte Coat/Develop Tracks in Saitama, Japan

Overzicht

Coat/develop‑tracks zijn geautomatiseerde natte proceslijnen in fotolithografie die fotoresist aanbrengen, bakken en ontwikkelen. Ze combineren spincoatunits, bakplaten, ontwikkelmodules, chemie‑handling en cassette‑automatisering in één lineaire baan voor consistente laagdikte en hoge throughput. Gebruikte systemen verschillen in cassettelengte, automatiseringsniveau en chemische compatibiliteit — controleer wafermaat, resisttypes, cleanroomklasse en fab‑interfaces vóór aankoop.

FAQ

Waarop moet ik letten bij aankoop van een gebruikte track?

Controleer cassettecapaciteit, ondersteunde waferformaten, chemiegeschiedenis, onderhoudslogboeken, staat van pompen en spinunits, en beschikbaarheid van spare parts en handleidingen.

Hoe regel je transport van een track die met fotoresist is gebruikt?

Laat gecertificeerde decontaminatie uitvoeren, spoel en purgeer chemielijnen, zet onderdelen vast voor transport en zorg voor documentatie over reinheid.

Welke voorzieningen zijn nodig voor installatie?

Meestal zijn DI‑water, solvent‑afvoer, stikstof/droge lucht, juiste stroomvoorziening, afzuiging/ventilatie en soms gekoeld water of vacuümleidingen nodig.

Hoe vaak is preventief onderhoud nodig?

Filter‑ en pompvervanging, inspectie van seals en leidingen, controle van spinnerlager, kalibratie van bakplaten en reiniging van chemielijnen volgens throughput.

Zijn onderdelen en verbruiksartikelen goed verkrijgbaar?

OEM onderdelen kunnen lang op zich laten wachten; verifieer beschikbaarheid van seals, pomponderdelen, spin chucks en controllers vóór aankoop.